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一种高残余黏着率离型膜及其制备方法.pdfVIP

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  • 2023-06-15 发布于四川
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一种高残余黏着率离型膜及其制备方法.pdf

    本发明公开了一种高残余黏着率离型膜。它是由下述重量百分比的各原料组成的：丙烯酸酯基聚硅氧烷60％‑90％、超支化聚硅氧烷10％‑40％、光引发剂2％‑4％，本方法采用结构新型、高敏感度、低毒性等综合性能良好的光引发剂2‑(2‑乙酰基噻吩)‑5‑乙酰基‑3，4‑乙烯二氧噻吩，并将其应用在自由基光固化离型膜上，让离型膜的残余黏着率提高。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113201295 A (43)申请公布日 2021.08.03 (21)申请号 202110286078.4 C09D 7/65 (2018.01) (22)申请日 20

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