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公开了用于设计光掩模的系统和方法。在示例中，提供设计图案。由至少一个处理器创建具有与设计图案相对应的模拟图案的虚拟光掩模。优化模拟图案，以使要在半导体衬底上产生的最终图案与设计图案聚合。该优化还包括通过至少一个处理器校正模拟图案的一个或多个轮廓，以使最终图案与设计图案之间的几何差异满足预定标准。该校正至少部分地基于从多个训练样本训练的模型。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113168086 A
(43)申请公布日 2021.07.23
(21)申请号 202180000880.0 G06F 30/392 (2020.01)
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