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本发明公开了一种化学机械抛光后清洗液的制备方法。本发明提供了一种清洗液的制备方法。本发明的清洗液的制备方法为：将清洗液的原料混合，即可，清洗液的原料包括下列质量分数的组分：0.01％‑25％强碱、0.01％‑30％醇胺、0.001％‑1％抗氧化物、0.01％‑0.1％杂环化合物、0.01％‑10％缓蚀剂、0.01％‑10％螯合剂、0.01％‑5％表面活性剂和14％‑75％水，各组分质量分数之和为100％；其中，杂环化合物为嘧菌腙和三环唑，嘧菌腙和三环唑的质量比为9:1。本发明的制备方法得到的清洗
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113151837 B
(45)授权公告日 2022.08.05
(21)申请号 202110461580.4 (56)对比文件
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