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本发明的真空处理装置是用于进行等离子体处理的真空处理装置。真空处理装置包括:连接到高频电源的电极凸缘;簇射极板,与所述电极凸缘隔开对置并与所述电极凸缘一起构成阴极;设置在所述簇射极板的周围的绝缘屏蔽;处理室,在所述簇射极板的与所述电极凸缘相反的一侧配置被处理基板;电极框,安装在所述电极凸缘的所述簇射极板侧;以及滑动板,安装在所述簇射极板的作为所述电极框侧的周缘部。所述簇射极板被形成为具有大致矩形轮廓。所述电极框与所述滑动板对应于所述簇射极板的升降温时产生的热变形而能够滑动,而且由所述簇射极板、所
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113261390 A
(43)申请公布日 2021.08.13
(21)申请号 201980087725.X (74)专利代理机构 北京德琦知识产权代理有限
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