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本文提供光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法。具体地,本文提供一种在光致抗蚀剂层中形成图案的方法包括在基板上形成光致抗蚀剂层;以及使光致抗蚀剂层选择性地曝露于光化辐射以形成潜在图案。通过将显影剂施加至经选择性曝露的光致抗蚀剂层以形成图案,来使潜在图案显影。光致抗蚀剂层包含光致抗蚀剂组合物,光致抗蚀剂组合物包含光活性化合物和聚合物。聚合物具有附接到聚合物的碘或碘代基中的一者或多者,并且聚合物包括一种或多种具有交联剂基团的单体单元,并且具有交联剂基团的单体单元为以下中的一者或多者:或者,光致抗
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113238457 A
(43)申请公布日 2021.08.10
(21)申请号 202110106359.7
(22)申请日 2021.01.26
(30)优先权数据
63/028,50
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