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本公开提供一种具有递变多孔介电结构的半导体元件。该半导体元件具有一基底、二导电特征、一递变多孔介电结构以及一介电层;该二导电特征相互远离设置,并位于该基底上;该递变多孔介电结构位于该二导电特征之间;该介电层位于其中一个导电特征与该递变多孔介电结构之间;其中该递变多孔介电结构包括一第一部分以及一第二部分,该第一部分具有一第一孔隙率,该第二部分具有一第二孔隙率,且该第二孔隙率高于该第一孔隙率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113257813 A
(43)申请公布日 2021.08.13
(21)申请号 202110117905.7
(22)申请日 2021.01.28
(30)优先权数据
16/789,09
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