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本发明提供光学装置、曝光装置以及物品制造方法。为了提供能降低因曝光导致的热影响并且抑制成像性能降低的光学装置，本发明所涉及的光学装置的特征在于具备：光学元件(5)；收纳光学元件(5)的镜筒(11)；设定从气体供给机构向镜筒(11)内供给的气体(17)的行进方向的行进方向设定机构(16)；以及控制行进方向设定机构(16)以便变更气体(17)的行进方向的控制部(18)。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113238459 A
(43)申请公布日 2021.08.10
(21)申请号 202110140250.5
(22)申请日 2021.02.02
(30)优先权数据
2020-0188
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