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光掩模、光掩模的制造方法、显示装置用器件的制造方法.pdfVIP

光掩模、光掩模的制造方法、显示装置用器件的制造方法.pdf

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    本发明涉及光掩模、光掩模的制造方法、显示装置用器件的制造方法，提供具有通过利用曝光装置进行曝光而将微细的线条图案转印至被转印体上的优异的转印性能的光掩模。一种在透明基板上具备转印用图案的显示装置制造用的光掩模，其中，转印用图案包含线条图案。线条图案具有沿着外缘以宽度E形成的边缘区域、以及在边缘区域以外的部分形成的宽度C的中央区域。边缘区域具有使对于光掩模进行曝光的曝光光的相位偏移大致180度的相移作用，并且相对于曝光光具有透过率T1(％)(其中0

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113253564 A (43)申请公布日 2021.08.13 (21)申请号 202110095839.8 (22)申请日 2021.01.25 (30)优先权数据 2020-0117

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