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本发明的半导体激光装置(1)构成为，在半导体激光器芯片(5)与次基台(3)的各对置面、以及次基台(3)与散热器(2)的各对置面中的至少任一个，设置有根据多个活性层(4a～4c)的排列方向上的位置，改变光的行进方向上的设定范围，来降低用于接合的接合材料(6)或接合材料(7)的附着性的处理区域(例如，处理区域(R5t))。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113228432 A
(43)申请公布日 2021.08.06
(21)申请号 201980082036.X (51)Int.Cl.
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