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本发明公开了一种用于大尺寸CVD腔体背板表面处理的等离子抛光设备及方法，包括平台、抛光槽、清洗槽及控制柜，所述平台顶面固接两个导轨，两个导轨上方放置有移动平台，所述移动平台底面转动连接四个导轮。本发明挂具组件内设置了两个上卡勾及两个下卡勾的间距，便于应对不同大小的工件，无需更换挂具，实用价值高，本发明中抛光槽内设置了循环系统，通过循环泵使得其内的抛光液处于流动状态，进而使得抛光液整体上下浓度均匀，不会产生浓度差，避免了因为抛光液浓度差异导致抛光表面光泽度不均匀的现象，本发明中清洗槽内采用喷头喷洗
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113231944 A
(43)申请公布日 2021.08.10
(21)申请号 202110494225.7
(22)申请日 2021.05.07
(71)申请人 安徽应友光电科技有限公司
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