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本发明公开了一种可促进铝熔体铺展的亲疏双效阵列涂层及其制备方法,涉及金属材料加工技术领域。所述制备方法包括以下步骤:提供基底;在所述基底上修饰亲铝液涂层;在所述亲铝液涂层上沉积牺牲模板;在所述牺牲模板上修饰疏铝液涂层;所述疏铝液涂层是由阵列排布的疏铝涂层单元组成;将所述牺牲模板刻蚀后暴露出部分基底上层的亲铝液涂层,即在基底上获得所述亲疏双效阵列涂层。本发明通过在换热壁面上构筑亲疏相间结构,破坏固‑液间三相接触线的连续性,降低接触角滞后,促进铝熔体的铺展,提高成膜率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113235088 B
(45)授权公告日 2022.07.19
(21)申请号 202110500236.1 C23C 4/08 (2016.01)
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