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本发明涉及一种用于制造全息光学元件(210)的方法(100),该全息光学元件设置用于在投影系统中进行投影。根据方法100,记录全息图(210),其方式是对于至少两个不同的配置引起第一高斯射束(212)和第二高斯射束(214)用于在全息薄膜(200)上的干涉。其中第一高斯射束(212)是参考射束,其对于至少两个不同的配置与用于重构全息光学元件(210)的重构射束相同。此外,第二高斯射束(214)是物射束,其在借助重构射束进行全息光学元件(210)的重构中与用于在投影系统中进行投影的投影射束相同。对
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113227912 A
(43)申请公布日 2021.08.06
(21)申请号 201980082292.9 (74)专利代理机构 永新专利商标代理有限公司
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