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一种高抛光度CMP抛光液及其制备方法.pdfVIP

一种高抛光度CMP抛光液及其制备方法.pdf

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    本申请涉及化学机械抛光的领域，具体公开了一种高抛光度CMP抛光液及其制备方法。高抛光度CMP抛光液，每100重量份的抛光液中包括磨料10‑45份、pH调节剂2‑7份、表面活性剂0.03‑0.3份、水溶性环糊精0.5‑2.5份、聚乙二醇0.03‑0.15份、水补足100份；其制备方法为：将磨料与水混合均匀后依次投入水溶性环糊精和聚乙二醇混合均匀，接着投入pH调节剂和表面活性剂混合均匀制得高抛光度CMP抛光液。本申请的高抛光度CMP抛光液具有抛光度高的优点。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113201284 B (45)授权公告日 2022.03.11 (21)申请号 202110445740.6 C09G 1/14 (2006.01)

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