一种基于低温辉光等离子体的疏水减摩自润滑碳膜及其制备方法.pdfVIP

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2023-06-17 发布于四川
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一种基于低温辉光等离子体的疏水减摩自润滑碳膜及其制备方法.pdf

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本发明涉及碳膜制备技术领域，具体涉及一种基于低温辉光等离子体的疏水减摩自润滑碳膜及其制备方法，对材料进行抛光处理，将材料置于等离子体渗氮炉中，抽真空至10～50Pa，接通电压，电压保持在600～800V，占空比30％～80％；通入碳源气体和氢气/氩气，调节炉内温度和气压，开始制备疏水减摩自润滑的碳膜，保持稳定的温度和气压等参数一段时间，接着试样随炉冷却至室温，取出试样；这种基于低温辉光等离子体的疏水减摩自润滑碳膜及其制备方法，解决了如何在低温下采用低成本制备兼具疏水和减摩自润滑特性的碳膜的问题。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113265641 B (45)授权公告日 2022.07.22 (21)申请号 202110322329.X C23C 8/38 (2006.01) (22)申请日 2021.03.