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- 2023-06-17 发布于四川
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本发明提供一种降低磁通密度1.45T条件下的铁损、变形小、生产率高的Fe基非晶合金薄带。本公开的一方式是一种具有第一面和第二面的Fe基非晶合金薄带。Fe基非晶合金薄带至少在第一面具有多个连续的线状激光照射痕。线状激光照射痕沿与Fe基非晶合金薄带的铸造方向正交的方向设置。线状激光照射痕的表面具有凹凸,在以铸造方向评价凹凸时,由Fe基非晶合金薄带的厚度方向上的最高点与最低点的高低差HL以及第一面中的线状激光照射痕的铸造方向上的长度即宽度WA算出的高低差HL×宽度WA为6.0~180μm2。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113892154 A
(43)申请公布日 2022.01.04
(21)申请号 202080040217.9 (72)发明人 板垣肇 黑木守文 佐佐木淳
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