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提供一种可靠性高的存储装置。该存储装置通过如下步骤形成:在衬底上形成第一绝缘体;在第一绝缘体上形成第二绝缘体;在第二绝缘体上形成第三绝缘体;形成贯穿第一绝缘体、第二绝缘体以及第三绝缘体的开口;在开口中在第一绝缘体的侧面、第二绝缘体的侧面以及第三绝缘体的侧面的内侧形成第四绝缘体;在第四绝缘体的内侧形成氧化物半导体;去除第二绝缘体;以及在第一绝缘体与第三绝缘体之间形成导电体,并且第四绝缘体通过多次的如下循环形成,该循环包括:对配置有衬底的处理室供应包含硅的气体及氧化性气体的第一步骤;停止对处理室供应
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114830324 A
(43)申请公布日 2022.07.29
(21)申请号 202080085779.5 (74)专利代理机构 北京信慧永光知识产权代理
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