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本发明属于涂覆技术领域,具体涉及一种用于非晶纳米晶带材连续涂覆绝缘涂层的设备及方法。本发明的设备可以稳定、均匀且连续地对非晶纳米晶带材进行绝缘涂层的涂覆。本发明的设备可以对带材表面进行清洗,解决了现有技术中因杂质的存在而导致绝缘涂层出现厚度不均匀甚至脱落的技术问题。此外,本发明的设备可以对涂覆后的非晶纳米晶带材的绝缘性能进行时测量,并且测量数据是耐压值和电阻值,可以直接反映绝缘涂层的绝缘性能。而且,本发明可以选用刷涂、喷涂、浸涂任意一种涂覆方式,同时结合厚度控制装置,对于带材表面多余的液体进行挤
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113275204 A
(43)申请公布日
2021.08.20
(21)申请号 20201
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