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- 2023-06-17 发布于四川
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提供一种能够获得稳定的散热特性的半导体装置及其制造方法。所述半导体装置包括:绝缘基材,具有第一表面;半导体芯片,具有暴露于所述第一表面的第二表面,并且被埋入于所述绝缘基材;以及散热层,具有镀层,并且与所述第一表面和所述第二表面接触。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113284866 A
(43)申请公布日 2021.08.20
(21)申请号 202110187398.4 C23C 14/18 (2006.01)
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