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本发明公开了一种投影设备、投影系统及投影方法,该投影设备包括不可见光光源及可见光光源、成像装置以及投影装置,成像装置设置在不可见光光源的路径上,用于对不可见光进行成像处理以形成不可见光特征图像;投影装置用于接收不可见光特征图像,并将不可见光特征图像投影至投影平面以形成特征投影图像;还用于形成可见光图像并投影至投影平面;还用于接收特征投影图像的监测信息,对投影平面上的可见光图像的投影状态调节。本发明能够使得投影图像的投影状态的调节不受外界环境的影响,以减小工作环境对投影设备的投影状态的调节的影响,
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113281951 A
(43)申请公布日
2021.08.20
(21)申请号 20201
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