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本公开涉及源极/漏极区域及其形成方法。一种方法包括：蚀刻第一凹部，该第一凹部与第一虚设栅极堆叠和第一鳍相邻；蚀刻第二凹部，该第二凹部与第二虚设栅极堆叠和第二鳍相邻；以及在第一凹部中外延生长第一外延区域。该方法还包括：在第一虚设栅极堆叠之上、第二虚设栅极堆叠之上、第一凹部中的第一外延区域之上、以及第二凹部中沉积第一含金属掩模；图案化第一含金属掩模以暴露第一虚设栅极堆叠和第一外延区域；在第一凹部中，在第一外延区域之上外延生长第二外延区域；以及在外延生长第二外延区域之后，去除第一含金属掩模的剩余部分。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114628331 A
(43)申请公布日 2022.06.14
(21)申请号 202110660224.5
(22)申请日 2021.06.15
(30)优先权数据
63/145,605 2021
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