等离子体处理装置和电位控制方法.pdfVIP

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2023-06-17 发布于四川
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等离子体处理装置和电位控制方法.pdf

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本发明提供能够在基片侧和边缘环侧独立地控制电位的等离子体处理装置和电位控制方法。等离子体处理装置包括：腔室；用于产生电偏置的偏置电源；用于在腔室内支承基片和边缘环的基片支承器，其包括用于保持基片的第一区域、以包围第一区域的方式设置的用于保持边缘环的第二区域、用于接收电偏置的设置在第一区域内的第一偏置电极、设置在第一区域内的被接地的第一阻抗调节电极、用于接收电偏置的设置在第二区域内的第二偏置电极、和设置在第二区域内的被接地的第二阻抗调节电极；阻抗调节机构，其与第一阻抗调节电极和第二阻抗调节电极中的

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116264147 A (43)申请公布日 2023.06.16 (21)申请号 202211555759.7 (22)申请日 2022.12.06 (30)优先权数据