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- 2023-06-17 发布于四川
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本发明提供一种半导体器件的制作方法,包括:提供一基底,该基底表面上凸出形成有多个间隔设置的鳍片,相邻该鳍片之间设有隔离层,该鳍片沿第一横向延伸;在该基底上形成牺牲层,该牺牲层覆盖该鳍片和该隔离层;图案化该牺牲层和该隔离层,以形成沿第二横向延伸的至少一个凹槽,且暴露出每个该凹槽中至少一个鳍片的顶壁和侧壁;形成栅介质层以覆盖凹槽中相应鳍片的该顶壁和该侧壁;形成栅极层以覆盖该栅介质层和该牺牲层;去除该牺牲层和该栅极层周围的该隔离层,以暴露出该栅极层,从而无需通过现有多晶硅刻蚀的方式形成栅极结构,能避免
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113270368 B
(45)授权公告日 2023.04.07
(21)申请号 202110518167.7 (56)对比文件
(22)申请日 2021.05.12
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