有序多孔NiO薄膜的制备及其物性研究.pdfVIP

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2023-06-21 发布于江苏
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有序多孔NiO薄膜的制备及其物性研究.pdf

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摘要立方结构的氧化镍（NiO ）是宽禁带氧化物，其禁带宽度为3.6~4.0 eV ，是用于制备宽禁带氧化物p-n 结的理想材料。NiO 具有优异的化学稳定性、光学及电学特性，被广泛的应用于超级电容器、电致变色、太阳能电池及阻变存储器等领域。此外，有序多孔金属氧化物由于氧空位的大量存在而表现出非常丰富的物理性质。基于此，本篇论文利用直流反应磁控溅射方法和阳极氧化法成功制备了有序多孔NiO 薄膜，探讨了氧氩比、溅射时间等参数对NiO 薄膜结构、成分和形貌的影响；并对NiO 薄膜的磁性、电阻