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一种提高激光淬火层深度的激光淬火工艺.pdfVIP

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  • 2023-06-19 发布于四川
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一种提高激光淬火层深度的激光淬火工艺.pdf

    本发明涉及一种提高激光淬火层深度的激光淬火工艺，通过缩短准直长度，可以有效增大进光光斑，通过增大积分镜的面积，可有效在同等时间内增加光斑区受热时间，通过降低移动速度，可以有效延长光斑在加热区的受热时间，增强加热深度，有效提高淬火层深度，上述工艺参数的调整，获得的激光淬火硬化层深度由原工艺0.8～1.5mm可以提高到2.2‑2.5mm，实现激光淬火硬化层深度提升。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113278768 A (43)申请公布日 2021.08.20 (21)申请号 202110589486.7 (22)申请日 2021.05.28 (71)申请人 丹阳宏图激光科技有限公司

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