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一种光罩图形测量方法及其系统，方法包括：提供设计图形以及光学邻近修正后的光罩图形；将光罩图形沿第一方向分成多个分片，第一方向与特征尺寸的测量方向相垂直；从多个分片中选取待测量分片，沿第一方向与待测量分片相邻的分别为第一分片和第二分片；采用多个测量步进对分片进行测量，获得多个测量特征尺寸，从所述设计图形能够获知待测量分片、第一分片和第二分片相对应的特征尺寸的关系，将多个测量特征尺寸进行比较，能够获得待测量分片的测量特征尺寸，从而能够判断待测量分片的特征尺寸是否满足设计要求，进而能够判断光学邻近修正
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113325661 A
(43)申请公布日
2021.08.31
(21)申请号 20201
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