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本公开的基板检查装置可以包括:第一光源,其朝向混合有荧光染料的基板的涂覆膜照射紫外线;第一光传感器,其捕获从所述紫外线照射的所述涂覆膜发生的荧光并获得所述基板的二维图像;处理器,其基于所述二维图像,导出所述基板的多个区域中的一个区域;第二光源,其朝向所述一个区域照射激光;及第二光传感器,其获得借助于所述激光而从所述一个区域发生的光干涉数据;所述处理器可以基于所述光干涉数据,导出关于所述一个区域的涂覆膜的厚度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113324487 A
(43)申请公布日 2021.08.31
(21)申请号 202110505263.8
(22)申请日 2018.11.28
(30)优先权数据
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