一种化学气相沉积设备及沉积方法.pdfVIP

  • 1
  • 0
  • 约1.11万字
  • 约 14页
  • 2023-06-20 发布于四川
  • 举报
一种化学气相沉积设备,包括安置在设备内部的气氛反应室及基体沉积室,气氛反应室与基体沉积室之间设有一分气组件,在气氛反应室内混合、反应完成后的沉积气氛经分气组件进行分气后均匀分散到基体沉积室,基体沉积室的上端连通有多个真空管,真空管的外端连通至真空泵,各真空管上分别设有阀门,各阀门设有控制阀门开闭的执行器,各执行器连接至控制器。本发明可使得基体表面均匀沉积,提高基体的表面沉积质量,降低生产成本。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113322446 A (43)申请公布日 2021.08.31 (21)申请号 202110695833.4 (22)申请日 2021.06.23 (71)申请人 厦门中材航特科技有限公司

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档