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本发明公开了一种单晶碱抛光添加剂、抛光液及抛光方法,添加剂按质量百分比计,包括如下组分:有机硅0.1%~10%,光亮剂0.1%~10%,氟碳表面活性剂0.05%~1%,余量为水。采用本发明提供的单晶碱抛光添加剂,应用于单晶抛光工艺,可以得到背面光亮的单晶,同时大幅度增加反射率;该单晶碱抛光添加剂影响抛光平整度,增强反应速度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113322008 A
(43)申请公布日 2021.08.31
(21)申请号 202110508319.5
(22)申请日 2021.05.10
(71)申请人 南京卓胜自动化设备有限公司
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