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本发明公开的一种基于包络约束的幅相联合叶片净空测量方法，联合目标的距离多普勒幅相二维分布图，应用掩膜检测的方法能够尽可能剔除非叶片的杂波信息，同时利用叶片的近似线性的变化特性，能够进一步剔除虚警点，利用最小二乘拟合和单元平均提升目标的相位估计精度，保证了叶片的净空估计连续性和准确性。基于边缘约束的幅相联合叶片净空测量方法能够显著改善叶片在强噪声和杂波环境下的识别精度，在有效提取叶片信息的基础上能够进一步改善叶片的干涉相位估计精度，提升系统对于叶片的测量稳定度。该方法能够改善目标在复杂环境下的输出
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113296073 A
(43)申请公布日 2021.08.24
(21)申请号 202110755395.6
(22)申请日 2021.07.05
(71)申请人 西安多芬睿达科技有限公司
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