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本申请公开的基于真空镀膜的晶控旋转集成控制系统,与现有技术相比,包括:用以监控镀膜工艺设备并且收发控制信号的上位机;与上位机连接的PLC主控模块;与PLC主控模块连接的控制管理模块;连接控制管理模块的第一控制模块以及第二控制模块;与第一控制模块连接的旋转驱动执行模块、转架安装执行模块以及水冷循环执行模块;与第二控制模块连接的温度调控检测模块、气体调控检测模块以及膜厚调控检测模块;与第一控制模块以及第二控制模块通信连接的通讯会话系统;设于镀膜工艺设备上,与通讯会话系统连接的镀膜执行终端以及镀膜检测
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113355645 A
(43)申请公布日 2021.09.07
(21)申请号 202110554396.4
(22)申请日 2021.05.20
(71)申请人 湖南宇诚精密科技有限公司
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