阴阳极双靶头优化管内壁镀膜的镀膜装置及其镀膜方法.pdfVIP

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2023-06-21 发布于四川
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阴阳极双靶头优化管内壁镀膜的镀膜装置及其镀膜方法.pdf

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阴阳极双靶头优化管内壁镀膜的镀膜装置及其镀膜方法，属于管件内壁薄膜沉积技术领域，本发明为解决现有管筒件内壁镀膜工艺等离子体进入管筒件内部距离较短、等离子体密度低的问题。它包括：两个平面等离子体靶头分别置于管筒件的管头和管尾侧，并均与管筒件的端口正对；两个平面等离子体靶头、两个励磁线圈和管筒件等轴；两个平面等离子体靶头连接在同一个靶电源上或分别连接两个靶电源；连接在同一个靶电源上时，交替作为阴阳极，通过交替正负脉冲使一个靶头对另一个靶头放电；连接两个靶电源上时，交替作为辅助阳极，通过波形相位关系使

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113373417 A (43)申请公布日 2021.09.10 (21)申请号 202110656600.3 (22)申请日 2021.06.11 (71)申请人哈尔滨工业大学地址

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