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本发明提供一种沟槽IGBT芯片版图结构,包括:若干个沿互相垂直的第一方向及第二方向排布的沟槽型IGBT芯片;每个沟槽型IGBT芯片包括一个元胞结构,每个元胞结构中形成有若干条互相平行的栅沟槽,且栅沟槽的方向沿第一方向或第二方向;沿第一、第二方向排布的相邻两个沟槽型IGBT芯片的栅沟槽的方向互相垂直。通过将晶圆上IGBT芯片栅沟槽在第一方向和第二方向均呈现纵横交错的分布,纵向栅沟槽中填充的栅多晶硅使晶圆向下翘曲,横向栅沟槽中填充的栅多晶硅使晶圆向上翘曲,纵横交错的栅沟槽,使压应力和张应力相互抵消,
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113363252 A
(43)申请公布日 2021.09.07
(21)申请号 202110603168.1
(22)申请日 2021.05.31
(71)申请人 上海积塔半导体有限公司
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