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提供一种铁电薄膜结构以及包括该铁电薄膜结构的电子器件,该铁电薄膜结构包括半导体基板、在半导体基板上的第一铁电层和在半导体基板上的第二铁电层。第二铁电层与第一铁电层间隔开并具有与第一铁电层不同的介电常数。第一铁电层和第二铁电层可以在其中包含的掺杂剂的量方面彼此不同,并可以在应用于晶体管时表现出不同的阈值电压。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113345795 A
(43)申请公布日 2021.09.03
(21)申请号 202011319958.9 H01L 27/088 (2006.01)
(22)申请日
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