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一种基于共混溶剂的随机纳米柱模板及其制备方法和应用.pdfVIP

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  • 2023-06-21 发布于四川
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一种基于共混溶剂的随机纳米柱模板及其制备方法和应用.pdf

    本发明公开了一种基于共混溶剂的随机纳米柱模板及其制备方法和应用，采用PS/PMMA相分离工艺配制H2O/MEK共混聚合物溶液，在25℃，25％相对湿度条件下在衬底表面旋涂配制的H2O/MEK共混聚合物溶液，旋涂过程中H2O/MEK共混聚合物溶液发生相分离，在衬底表面形成共混薄膜；然后使用清洗溶剂清洗共混薄膜；再在氮气流下进行烘干处理，制得基于共混溶剂的随机纳米柱模板。本发明避免了传统共混聚合物相分离工艺所需要的苛刻条件，简化了实验要求，有助于将共混聚合物相分离工艺应用到更多的领域中。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113369106 B (45)授权公告日 2023.03.28 (21)申请号 202110450526.X 审查员 高阳 (22)申请日 2021.04.25

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