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2023-06-21 发布于四川
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用于跟踪对象的位置和取向的跟踪系统，该跟踪系统包括：跟踪基座，其被设置在环境中，该跟踪基座包括：跟踪头支架和至少三个跟踪头，该至少三个跟踪头被安装到跟踪头支架；目标系统，其包括至少三个目标，这些目标被安装到对象，每个目标包括反射器，该反射器将辐射束反射到相应的跟踪头的基座传感器；以及控制系统，该控制系统：在相应的目标在环境中移动时，使每个跟踪头跟踪该相应的目标；确定每个目标相对于相应的跟踪头的位置；至少部分地使用所确定的每个目标的位置来确定目标系统的取向；以及，至少部分地使用目标系统的位置和取向

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113366401 A (43)申请公布日 2021.09.07 (21)申请号 201980089047.0 (74)专利代理机构北京安信方达知识产权代理

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