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本发明公开了一种存储器装置、集成电路、数据处理装置及其制造方法,该存储器装置具有特定氧化硅(SiOx)掺杂至特别的富含锗的GexSbyTez材料的相变材料。作为一存储器阵列之中的存储器元件的使用此相变材料的集成电路可通过本发明所述的焊接结合标准,而展现良好的设定速度及显示良好的10年数据保存特性。本发明所述的存储单元包括一第一电极及一第二电极;以及一存储器元件,电串联于此第一电极及此第二电极之间。此存储器元件包括一GexSbyTez相变材料与一硅氧化物添加物,包括具有28至36at%的范围的锗(
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113451506 A
(43)申请公布日 2021.09.28
(21)申请号 202010380908.5
(22)申请日 2020.05.08
(30)优先权数据
16/833,34
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