导电图案结构及其制备方法与图案化的基底.pdfVIP

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2023-06-23 发布于四川
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导电图案结构及其制备方法与图案化的基底.pdf

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本申请公开一种导电图案结构及其制备方法与图案化的基底。在导电图案结构的制备方法中，通过飞秒激光扫描基底表面，使基底表面形成高精度的预设三维图案，再以高精度的预设三维图案制备导电图案结构，可以提高导电图案结构的精度；同时在飞秒激光扫描过程中会使基底由平整表面转变为粗糙表面，有利于提高导电墨水在基底上的润湿性，从而有利于导电墨水铺展于所述图案化的基底表面上，提高导电图案结构的良率。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113539811 B (45)授权公告日 2022.07.15 (21)申请号 202110765342.2 C09D 11/52 (2014.01) (22)申请日 2021.07