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本发明揭示了一种可变磁场磁控溅射镀膜装置及高导电碳基涂层的制备方法。所述可变磁场磁控溅射镀膜装置包括真空腔体、可变磁场磁控阴极、转动机构和辅助阴极，所述真空腔体的内部设置有溅射镀膜区，所述可变磁场磁控阴极用以向设置在所述真空腔体内的基材溅射预定膜材，转动机构用以承载所述基材，并控制所述基材相对所述可变磁场磁控阴极移动；所述辅助阴极设置于所述溅射镀膜区中。本发明提供的可变磁场磁控溅射镀膜装置，其中，可变磁场磁控阴极为可调磁场，通过调节磁柱角度调控磁场平衡度，分别制备金属过渡层及碳基涂层，同时增加辅
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113430490 A
(43)申请公布日 2021.09.24
(21)申请号 202110701365.7
(22)申请日 2021.06.23
(71)申请人 中国科学院宁波材料技术与工程研
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