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本公开提供了一种高发光效率的发光二极管外延片及其制造方法,属于半导体技术领域。所述制造方法包括提供一衬底;在所述衬底上生长缓冲层;在所述缓冲层上生长N型波导层,所述N型波导层包括多个周期交替生长的第一子层和第二子层,所述第一子层为N型InGaN层,所述第二子层为N型GaN层;在每次生长完所述第一子层后,向反应室内通入氨气和氢气,对所述第一子层进行表面处理;在所述N型波导层上依次生长多量子阱层、P型波导层和电极接触层。采用该制造方法可以减少底层应力和缺陷延伸至多量子阱层,保证多量子阱层的晶体质量,
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113571607 B
(45)授权公告日 2022.08.12
(21)申请号 202110610507.9 H01L 33/06 (2010.01)
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