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2023-06-23 发布于四川
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一种用于石英晶振高频晶片的气液清洗装置.pdf

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本发明公布了一种用于石英晶振高频晶片的气液清洗装置，包括机座，机座上具有工位口，工位口上设有清洗仓，清洗仓内设有支撑柱和与支撑柱活动设置的定位板，定位板与清洗仓之间设有弹簧，工位口的上端设置有盖板，盖板连接驱动源，定位板上具有数个容高频晶片置入的放置槽，放置槽上贯通有清洗孔，定位板上设置有清洗管和与清洗管连通的进气口，清洗管具有多个支管，多个支管分别位于相邻的两放置槽之间，其上具有数个朝放置槽方向贯通的出气孔；其中，盖板在驱动源的作用下，与定位板配合使放置槽形成独立的空间；本发明提出一种用于石英

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113441472 B (45)授权公告日 2022.08.02 (21)申请号 202110749359.9 (22)申请日 2021.07.01 (65)同一申请的已公布的文献号

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