一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物.pdfVIP

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2023-06-23 发布于四川
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一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物.pdf

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本发明属于表面活性剂技术领域，具体涉及一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物，按质量百分数之和为100%计，包括0.1‑5%的特定的乙二醇基Gemini型两性离子表面活性剂，5‑20%无机强碱性物质，0.5‑20%有机助剂，0.1‑5%螯合剂，余量为高纯水。本发明通过特定的乙二醇基Gemini型两性离子表面活性剂与无机强碱混配，可以快速并有效去除蒸镀工艺中掩膜版及蒸镀设备坩埚上附着的LiF电极材料，大大提高了锂盐的溶解度，解决了市面上产品存在的沉淀问题，且易清洗无残留。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113528253 B (45)授权公告日 2023.04.11 (21)申请号 202110771869.6 C11D 3/06 (2006.01)