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本发明公开了一种获取氘氚中子源能谱和角分布的方法,采用基于SiC探测器的D‑T中子辐射场测量系统,可同时测量两种反应的伴随粒子,能谱上可区分,得到α粒子和质子的计数率;考虑了D‑T反应中由于靶沉积导致的D‑D反应的影响,获得D‑T、D‑D中子源的能谱和角分布,有效提升了能谱和角分布精确度;本发明的方法对伴随粒子的管道,光栅等靶管相关参数并无要求,操作简单,只需要测量一组数据即可得到全空间的能谱分布,不需要逐一测量不同角度,可对所有D‑T中子源进行测量;且本发明的方法可应用于在有伴随粒子通道预留的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116299648 A
(43)申请公布日 2023.06.23
(21)申请号 202211661147.6
(22)申请日 2022.12.23
(71)申请人 中国原子能科学研究院
地址 10
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