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本发明揭示了一种半导体结构及制造方法,所述方法包括:提供第一基板,所述第一基板包括安装于所述第一基板一个表面的第一锡球;在所述表面上安装第一芯片;将所述第一芯片与所述基板导通;在所述第一基板及所述第一芯片上注塑,形成第一封装层,覆盖所述第一基板、所述第一锡球以及所述第一芯片;在所述第一封装层中开设连接槽,暴露出所述第一锡球;以及在所述连接槽的内部进行第二锡球填充,直至所述第二锡球齐平或者超过所述第一封装层的上表面,以获得第一模组。本发明通过采用植球工艺将锡球填充到连接槽的内部,代替了传统的铜柱制
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116313855 A
(43)申请公布日 2023.06.23
(21)申请号 202310242029.X H01L 23/538 (2006.01)
(22)申请日 2023.03
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