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一种晶片抛光用耐磨抛光垫.pdfVIP

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  • 2023-06-26 发布于四川
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一种晶片抛光用耐磨抛光垫.pdf

    一种晶片抛光用耐磨抛光垫，涉及抛光技术领域，包括基体，基体的材质为聚晶立方氮化硼，基体的上表面形成抛光面，抛光面上均匀分布有若干凸起，相邻两凸起之间形成沟槽，本实用新型提供的抛光垫硬度均匀性一致，耐磨性及导热性优异，显著提高材料的物理机械性能，满足强度和韧性的基础上，具备较低的内生热及更好的动态性能，使其更适用于高速、高承载等动态性能要求高的工作环境中；且聚晶立方氮化硼抛光垫表面立体的结构，能够减少抛光垫与晶圆的相互机械作用力，促进热量的疏散，同时沟槽有助于抛光后的残渣或抛光副产物的及时排出，不

    (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219234975 U (45)授权公告日 2023.06.23 (21)申请号 202223278384.2 (22)申请日 2022.12.07 (73)专利权人 富耐克超硬材料股份有限公司 地址

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