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本申请提供了一种减反膜的制备方法、减反膜、压印模板、显示面板和显示装置,涉及显示技术领域,解决了减反膜的制备工艺复杂、难以控制、良率低,成本高昂的问题。该方法包括:在第一基板上沉积非晶硅层;对非晶硅层进行激光退火,得到多晶硅层,多晶硅层包括晶界凸起,晶界凸起限定出彼此独立的多个凹槽;获取压印膜,并利用多晶硅层对压印膜进行压印,得到减反膜,其中,减反膜包括多个第一凸起,多个第一凸起和多个凹槽一一对应。该方法通过激光退火得到多晶硅层,有利于提高多晶硅层中晶界凸起的均匀性,进而提高了减反膜中第一凸起的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116299790 A
(43)申请公布日 2023.06.23
(21)申请号 202310315071.X
(22)申请日 2023.03.28
(71)申请人 昆山国显光电有限
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