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本申请提供一种绝缘介质窗清洗设备及方法,应用于晶圆加工技术领域,其中,绝缘介质窗清洗设备,包括:导电薄膜设置在电感耦合机台的绝缘介质窗上;在直流偏压的作用下,绝缘介质窗、腔体和腔体盖之间的等离子体,被库仑力吸引持续轰击绝缘介质窗表面,使得绝缘介质窗表面的沉积物无法附着在绝缘介质窗表面。通过在绝缘介质窗上增加一层导电薄膜,此层导电薄膜和腔体盖、腔体等形成电容耦合辉光放电,在直流偏压作用下,等离子体中大质量离子被库仑力吸引持续轰击绝缘介质窗表面,使得沉积物无法附着在绝缘介质窗表面,可以有效的对绝缘介
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116344316 A
(43)申请公布日 2023.06.27
(21)申请号 202310408924.4
(22)申请日 2023.04.17
(71)申请人 上海邦芯半导体科技有限公司
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