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本发明涉及晶片加工领域,公开了一种去除蓝宝石单抛衬底背面色差的清洗方法,蓝宝石衬底研磨下机后使用流水冲洗掉表面的研磨砂,再将其于碱性清洗剂中浸泡20‑30min后,使用流水冲掉表面的浮砂及清洗剂;边喷活性剂边双面刷洗,最后喷纯水冲洗掉活性剂;采用2~4倍压缩的擦擦克林擦洗表面后,纯水冲洗表面杂质;使用酸性清洗剂浸泡800~1000s后,进行QDR清洗;干燥、叠片、上炉、退火后,贴片、单面化学抛光后,通过鼓泡清洗表面的大颗粒;刷洗掉抛光面的脏污颗粒;使用科技海绵蘸取活性剂擦洗抛光面;去蜡清洗和碱洗
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113680721 B
(45)授权公告日 2022.07.12
(21)申请号 202110960902.X B08B 3/02 (2006.01)
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