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本发明公开了一种传感器单晶硅刻蚀装置的送气机构，其结构包括刻蚀腔、调节钮、排气管、弯管、送气管，刻蚀腔上连接有排气管和送气管，送气管之间设置有弯管，且连接有调节钮，弯管包括保护套筒、收缩套、助力组件、管体，管体连接在送气管上，且其内部连接有保护套筒，保护套筒上连接有收缩套，收缩套之间设置有助力组件，在助力组件上设置有集合装置和扭旋架，利用集合装置和扭旋架在滑轨内相配合，当气流沿弯管的径向呈发散状进入下一管体中，将会推动集合装置逐渐向下收拢，带动扭旋架转动来引导气流集中向下，控制气流内外圈流速大小
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113690124 A
(43)申请公布日 2021.11.23
(21)申请号 202110829412.6
(22)申请日 2021.07.22
(71)申请人 吴秀敏
地址 510
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