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- 2023-06-30 发布于四川
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一种二氧化硅研磨抛光剂的制备方法，包括了磨料晶种的制备步骤、高纯饱和硅溶胶液的制备步骤、沉积有疏松二氧化硅结晶颗粒的磨料晶核的制备步骤、以及包裹有硅溶胶层的磨料晶核混合乳剂的制备步骤。通过这些步骤，可以制得棱角钝化、表面具有疏松二氧化硅结晶颗粒的高硬度磨料晶核且磨料晶核上包裹有硅溶胶层的二氧化硅研磨抛光剂。本发明通过选择不同规格种类的磨料晶种，决定研磨抛光剂的切削能力；还可通过调节高纯饱和硅溶胶液中的二氧化硅质量百分比浓度和控制其沉积结晶条件及时间获得不同切削能力的二氧化硅结晶颗粒；且可通过控制
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113683962 B
(45)授权公告日 2022.06.07
(21)申请号 202111010321.6 (56)对比文件
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