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- 2023-07-01 发布于四川
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本发明涉及金属表面化学处理领域，尤其涉及IPCC23F1领域，具体涉及一种纯铜金属刻蚀液及其使用方法。所述主剂的组分按照主剂的质量百分比计，包括：氧化剂3‑15％，强氧化性酸1‑15％，有机酸1‑15％，有机碱0.5‑15％，双氧水稳定剂0.01‑4.0％，金属缓蚀剂0.01‑1.0％。所述辅剂的组分按照辅剂的质量百分比计，包括：有机酸1‑40％，金属缓蚀剂0.01‑1％。本发明具有拥有极佳的蚀刻范围，能实现表面无金属残留、无倒角、无裂缝、较高的铜负载量，能有满足超精细产品的生产要求。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116356324 A
(43)申请公布日 2023.06.30
(21)申请号 202310294563.5
(22)申请日 2023.03.24
(71)申请人 四川和晟达电子科技有限公司
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